了解抛光技术在我国的重要作用

时间:2015-01-26 浏览次数:
 
 
  了解抛光技术在我国的重要作用。目前,很多电子技术领域中,不少人还是依赖国外的相关技术进行,他们会专门从国外购买设备以及技术专利。这对我国电子技术发展大大限制了,并且也耗费了成倍的钱力和物力。研磨和抛光技术就是影响电子技术发展的一个重要环节,现在很多研磨抛光机都是从德国,美国,日本进口,但在国内仍是供不应求的状态,而本身国内的技术还处在研发改进的阶段,需要大力发展。超精表面抛光、改性和测试技术是先进电子制造中的关键技术之一,它主要应用于磁记录领域中的计算机硬盘磁头表面及硬盘盘基片表面的抛光,同时还应用于集成电路领域的硅晶片加工和半导体领域的发光二极管(LED)蓝宝石基片的加工。因此,这项技术的突破将对我国电子制造业走上自主创新的道路产生较大的推动作用。
 
  由于电子产业以及时代的不断进步发展,对硬盘存储密度的要求越来越高,使磁头的飞行高度不断降低,磁头、磁盘碰撞的几率在增加,而其保护膜的性能也必须得到相应的提升。将摩擦学与电子制造相结合,从2000年开始,瞄准这一方向,集中力量研究硬盘制造中的表面改性、加工和测量问题。在小小的磁头上奋战数年,一个纳米一个纳米地向前迈进,常常是“山穷水复疑无路,柳暗花明又一村”。在计算机硬盘制造领域,飞行高度每降低一个纳米,都要面临一系列巨大的技术挑战。以磁头表面抛光技术为例,磁头读写区由铁磁材料、导线(金)、基体(氧化铝)等软硬不同的材料组成,需要均匀去除;其次,铁磁材料极易腐蚀,它加工液的阴离子浓度在10以下;再者,磁头越接近磁盘表面,就越容易与其产生摩擦,这就要求磁盘表面必须更加光滑(粗糙度在0.1nm以下)。
 
  此外,随着磁头飞行高度的降低,如何保护磁头表面,使其不产生磨损也是一个难题。在研究过程中,课题组创造性地提出将纳米金刚石颗粒引入磁头表面抛光液中,利用含有超细金刚石颗粒的抛光液与磁头的氧化铝表面相互作用,从而使磁头表面粗糙度得以大幅降低。让人更高兴的是,纳米金刚石抛光液的运用还能去除磁头表面在抛光过程产生的划痕和黑点,为磁头读写能力的提升作出了贡献。在磁头抛光液取得重大突破之后,课题组把他们的研究范围进一步扩大,取得了更加丰硕的成果:如集成电路领域的硅晶片抛光,其抛光速率、硅晶片表面粗糙度、抛光液循环使用寿命等关键指标均超过国外同类先进抛光液,达到了取代国外先进产品的技术水平;半导体领域的发光二极管(LED)蓝宝石基片抛光中,成功解决了蓝宝石抛光过程中抛光速率低、表面划痕多以及表面粗糙度大等问题。
 
  通过引进国外的技术,并对这些工艺做研究和改进,以适合更多工件的研磨抛光技术,目前就蓝宝石,硅片等晶体的抛光要达到纳米的精度已经不是神话,方达就具备这样的条件,拥有这样的研磨抛光机机器。但是尽管如此,我们还要继续探索,不断创新,求更好的发展。
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